7N高純銅靶材是一種具有高導電性、良好導熱性、較高延展性、抗腐蝕性的金屬材料,廣泛應用於半導體與微電子製造、 光學與顯示技術行業、航空航天與軍工領域、 新能源與太陽能行業、科研與精密儀器行業、醫療行業等領域。
基本參數:
| 純度 | Cu=99.99999+% |
| 雜質總量 | ≤0.1ppm |
| 外觀顏色 | 銅金色 |
| 產品規格 | 可根據客戶要求進行加工 |
| 應用領域 | 半導體與微電子製造、光學與顯示技術、航空航天與軍工、新能源與太陽能行業、科研與精密儀器行業、醫療行業 |
| 符合國標74項全元素檢測標準 | |
產品應用行業:
7N高純銅靶材提供低雜質含量,確保薄膜質量和一致性,減少性能損失。廣泛應用於半導體芯片的薄膜沉積、金屬互連和封裝等領域。
7N高純銅靶材因其低雜質含量和高導電性,在光學薄膜和顯示技術領域有着顯著優勢。N無銀靶材被廣泛應用於反射鏡、透明導電膜以及OLED顯示器的製造中。
7N高純銀靶材低雜質含量使其在高輻射、高溫環境中穩定工作,避免性能下降。優異的導電性和熱穩定性確保電子系統和高精度儀器正常運行,廣泛應用於航空航天、衛星、雷達等高端軍事設備。
7N高純銀靶材因高純度和穩定性,減少雜質干擾,提升導電性和熱穩定性,廣泛應用於高能物理、粒子加速器、電子顯微鏡等科研設備。
7N高純銅靶材是一種具有高導電性、良好導熱性、較高延展性、抗腐蝕性的金屬材料,廣泛應用於半導體與微電子製造、 光學與顯示技術行業、航空航天與軍工領域、 新能源與太陽能行業、科研與精密儀器行業、醫療行業等領域。
基本參數:
| 純度 | Cu=99.99999+% |
| 雜質總量 | ≤0.1ppm |
| 外觀顏色 | 銅金色 |
| 產品規格 | 可根據客戶要求進行加工 |
| 應用領域 | 半導體與微電子製造、光學與顯示技術、航空航天與軍工、新能源與太陽能行業、科研與精密儀器行業、醫療行業 |
| 符合國標74項全元素檢測標準 | |
產品應用行業:
7N高純銅靶材提供低雜質含量,確保薄膜質量和一致性,減少性能損失。廣泛應用於半導體芯片的薄膜沉積、金屬互連和封裝等領域。
7N高純銅靶材因其低雜質含量和高導電性,在光學薄膜和顯示技術領域有着顯著優勢。N無銀靶材被廣泛應用於反射鏡、透明導電膜以及OLED顯示器的製造中。
7N高純銀靶材低雜質含量使其在高輻射、高溫環境中穩定工作,避免性能下降。優異的導電性和熱穩定性確保電子系統和高精度儀器正常運行,廣泛應用於航空航天、衛星、雷達等高端軍事設備。
7N高純銀靶材因高純度和穩定性,減少雜質干擾,提升導電性和熱穩定性,廣泛應用於高能物理、粒子加速器、電子顯微鏡等科研設備。
